1、蒸（zhēng）發鍍膜設備與技術 真空蒸發（fā）鍍膜設備主要用於在經予處（chù）理的塑（sù）料、陶瓷等製品表麵（miàn）蒸鍍金屬（shǔ）薄膜（鍍鋁、鉻、錫、不鏽鋼等金屬）、七（qī）彩膜仿金膜等（děng）,從而獲（huò）得光亮、美觀、價廉的塑料,陶瓷表麵金屬化（huà）製品。廣泛應用於工藝美術、裝（zhuāng）璜裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女式（shì）鞋後跟等領域, JTPZ多功能鍍膜技術及設備（加有射頻等離子體聚合的蒸發鍍膜機），針對（duì）汽車、摩托車燈（dēng）具而設計的，在一個真空室內完成蒸發鍍鋁和射頻等離子體鍍（dù）保護膜（mó），這種鍍（dù）膜（mó）後燈具具有（yǒu）“三（sān）防”功能。射頻等離子體聚合膜還應用於光學產品、磁記錄介質（zhì）、軍事國防保護膜；防潮增透膜；防（fáng）鏽（xiù）抗腐蝕；耐磨增硬膜。 用戶選擇在燈具基體上（shàng）噴底漆、鍍鋁膜、鍍保護膜或燈具基體在（zài）真空室進行前處理（不噴底漆）、鍍鋁膜、鍍保護膜（mó）工藝（yì）。

  2、真空鍍加工的等離子擴（kuò）滲鍍膜設（shè）備及技術；離子滲氮：可以在輝光放電條件下，將N、C等元素滲入到零件和模（mó）具內部、明顯提高表麵硬度（dù）、抗疲勞等性（xìng）能和耐腐蝕性，相對於總體滲氮處理時間短、濕度低、變（biàn）形小、表麵性能可控，可（kě）用於各種鋼鐵及鈦合金（jīn）結構（gòu）件，各種模（mó）具和各種不鏽鋼製品。 等離子體（tǐ）化學氣相沉積設備與技（jì）術(離子滲氮，氮（dàn）碳共滲) 等離子體化學氣相沉積（PCVD）是一種新型的脈衝（chōng）直流等離子體輔助（zhù）沉積硬（yìng）質鍍膜新技術。在（zài）一定壓力、溫度的真空爐內，加（jiā）入適當（dāng）比例的不同工作氣體，在脈衝電壓的作用下，通（tōng）過（guò）輝光放電（diàn）產生均勻等離子體（tǐ）。在（zài）不同工藝條件下（xià），可（kě）在被（bèi）處理工件表麵形成（chéng）各種硬質膜如（rú）TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多層複合（hé）膜等，顯微硬度高達HV2000--2500。與CVD和PVD相比，PCVD技術可實現離子滲氮、滲碳和鍍膜（mó）在同一爐內依次進行，高效率地實現滲透複合工藝。該設備適用（yòng）於要求提高表麵耐（nài）磨損（sǔn）、耐腐蝕、抗高溫氧化、抗疲勞的零部件和工模具。被處理材料主要包括：高速鋼、冷熱（rè）鋼、冷熱模具鋼、結構鋼、不鏽鋼、鈦合金、硬質合金等